|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
An assessment of the resolution limitation due to radiation-damage in X-ray diffraction microscopy |
| Auteur: |
Howells, M.R. Beetz, T. Chapman, H.N. Cui, C. Holton, J.M. Jacobsen, C.J. Kirz, J. Lima, E. Marchesini, S. Miao, H. Sayre, D. Shapiro, D.A. Spence, J.C.H. Starodub, D. |
| Verschenen in: |
Journal of electron spectroscopy and related phenomena |
| Paginering: | Jaargang 170 (2009) nr. 1-3 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 12 gevonden artikelen
| volgende >> |