|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Effective attenuation length of Al Kα-excited Si2p photoelectrons in SiO2, Al2O3 and HfO2 thin films |
| Auteur: |
Vitchev, R.G. Defranoux, Chr. Wolstenholme, J. Conard, T. Bender, H. Pireaux, J.J. |
| Verschenen in: |
Journal of electron spectroscopy and related phenomena |
| Paginering: | Jaargang 149 (2005) nr. 1-3 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |