|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 50 gevonden artikelen
| Titel: |
A material removal model for silicon oxide layers in chemical mechanical planarization considering the promoted chemical reaction by the down pressure |
| Auteur: |
Wang, Yongguang Chen, Yao Qi, Fei Zhao, Dong Liu, Weiwei |
| Verschenen in: |
Tribology international |
| Paginering: | Jaargang 93 (2016) nr. PA pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 50 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |