Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 32 van 36 gevonden artikelen
 
 
  The impact of diamond conditioners on scratch formation during chemical mechanical planarization (CMP) of silicon dioxide
 
 
Titel: The impact of diamond conditioners on scratch formation during chemical mechanical planarization (CMP) of silicon dioxide
Auteur: Kwon, Tae-Young
Ramachandran, Manivannan
Cho, Byoung-Jun
Busnaina, Ahmed A.
Park, Jin-Goo
Verschenen in: Tribology international
Paginering: Jaargang 67 (2013) nr. C pagina's 6 p.
Jaar: 2013
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 32 van 36 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland