|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 34 van 63 gevonden artikelen
| Titel: |
Insight into the atomic-scale material removal of 4H-SiC electrochemical mechanical polishing (ECMP) using graphene oxide |
| Auteur: |
Wang, Zirui Zhu, Yuguang Ren, Ronghao Zhang, Tianyu Peng, Yang Wang, Yongguang Lu, Xiaolong Wang, Chuanyang |
| Verschenen in: |
Tribology international |
| Paginering: | Jaargang 210 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 34 van 63 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |