|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 66 van 119 gevonden artikelen
| Titel: |
Microscopic removal mechanism of 4 H-SiC during abrasive scratching in aqueous H2O2 and H2O: Insights from ReaxFF molecular dynamics |
| Auteur: |
Ban, Xinxing Zheng, Shaodong Tian, Zhuangzhi Zhu, Jianhui Ba, Wenlan Wang, Ningchang Han, Shaoxing Qiu, Hui Wang, Xing Li, Zhengxin |
| Verschenen in: |
Tribology international |
| Paginering: | Jaargang 200 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 66 van 119 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |