|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 73 van 92 gevonden artikelen
| Titel: |
Study of the humidity-controlled CeO2 fixed-abrasive chemical mechanical polishing of a single crystal silicon wafer |
| Auteur: |
Li, Gengzhuo Xiao, Chen Zhang, Shibo Luo, Shengquan Chen, Yuhan Wu, Yongbo |
| Verschenen in: |
Tribology international |
| Paginering: | Jaargang 178 () nr. PB pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 73 van 92 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |