Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 8 van 28 gevonden artikelen
 
 
  Effect of annealing at argon pressure up to 1.2 GPa on hydrogen-plasma-etched and hydrogen-implanted single-crystalline silicon
 
 
Titel: Effect of annealing at argon pressure up to 1.2 GPa on hydrogen-plasma-etched and hydrogen-implanted single-crystalline silicon
Auteur: Misiuk, A
Bąk-Misiuk, J
Barcz, A
Romano-Rodriguez, A
Antonova, I.V
Popov, V.P
Londos, C.A
Jun, J
Verschenen in: International journal of hydrogen energy
Paginering: Jaargang 26 (2001) nr. 5 pagina's 6 p.
Jaar: 2001
Inhoud:
Uitgever: International Association for Hydrogen Energy
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 8 van 28 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland