|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 13 gevonden artikelen
| Titel: |
Extreme ultraviolet (EUV) sources for lithography based on synchrotron radiation |
| Auteur: |
Dattoli, Guiseppe Doria, Andrea Gallerano, Gian Piero Giannessi, Luca Hesch, Klaus Moser, Herbert O. Ottaviani, Pier Luigi Pellegrin, Eric Rossmanith, Robert Steininger, Ralph Saile, Volker Wüst, Jürgen |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section A, Accelerators, spectrometers, detectors and associated equipment |
| Paginering: | Jaargang 474 (2001) nr. 3 pagina's 14 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 13 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |