Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 11 van 58 gevonden artikelen
 
 
  Defects at the Si/SiO2 interface: Their nature and behaviour in technological processes and stress
 
 
Titel: Defects at the Si/SiO2 interface: Their nature and behaviour in technological processes and stress
Auteur: Füssel, W.
Schmidt, M.
Angermann, H.
Mende, G.
Flietner, H.
Verschenen in: Nuclear instruments and methods in physics research. Section A, Accelerators, spectrometers, detectors and associated equipment
Paginering: Jaargang 377 (1996) nr. 2-3 pagina's 7 p.
Jaar: 1996
Inhoud:
Uitgever: Elseiver Science B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 11 van 58 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland