|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 40 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
X-ray reflection, a technique for measuring sputtering yields of thin films |
| Auteur: |
Verhoeven, J. Keppel, A. Schlatmann, R. Xue, Y. Katardjiev, I.V. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 94 (1994) nr. 4 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
1994 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 40 van 40 gevonden artikelen
| << vorige |