|
Rapid thermal annealing of Si1−x Ge x layers formed by germanium ion implantation |
|
|
|
Titel: |
Rapid thermal annealing of Si1−x Ge x layers formed by germanium ion implantation |
Auteur: |
Xia, Z. Saarilahti, J. Ronkainen, H. Eränen, S. Suni, I. Molarius, J. Kuivalainen, P. Ristolainen, E. Tuomi, T. |
Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
Paginering: |
Jaargang 88 (1994) nr. 3 pagina's 8 p. |
Jaar: |
1994 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|