|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Roles of implantation temperature and ion dose rate in ion-beam synthesis of buried Si3N3 layers |
| Auteur: |
Kachurin, G.A. Akhmetov, V.D. Tyschenko, I.E. Plotnikov, A.E. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 74 (1993) nr. 3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1993 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |