|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
End-of-range disorder influenced by inherent oxygen in silicon |
| Auteur: |
Antos, L. Gyulai, J. Khanh, N.Q. Frey, L. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 71 (1992) nr. 4 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1992 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |