|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 103 van 162 gevonden artikelen
| Titel: |
O2
+ and Xe+ depth profiling of 150 keV Cs+ implantation in Si and SiO2 by SIMS |
| Auteur: |
Bhan, M.K. Kilner, J.A. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 64 (1992) nr. 1-4 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1992 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 103 van 162 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |