|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 178 van 184 gevonden artikelen
| Titel: |
The use of negative ions to enhance beam currents at low energies in an MeV ion implanter |
| Auteur: |
O'Connor, John P. Mack, Michael E. Renau, Anthony Tokoro, Nobuhiro |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 55 (1991) nr. 1-4 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1991 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 178 van 184 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |