|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of thermal annealing on silicon negative ion implanted SiO2 thin films |
| Auteur: |
Vishwakarma, S.B. Dubey, S.K. Dubey, R.L. Sulania, I. Kanjilal, D. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 546 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |