|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of hydrogen implantation on low-temperature activation of boron in silicon |
| Auteur: |
Lin, Jui-Chang Lee, Bo-Wen Chang, Ruey-Dar Chu, Che-Men Woon, Wei-Yen |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 505 () nr. C pagina's 58-63 |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |