|
Formation of buried and surface CoSi2 layers by ion implantation |
|
|
|
Titel: |
Formation of buried and surface CoSi2 layers by ion implantation |
Auteur: |
Wu, M.F. Vantomme, A. Pattyn, H. Langouche, G. Maex, K. Vanhellemont, J. Vanacken, J. Vloeberghs, H. Bruynseraede, Y. |
Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
Paginering: |
Jaargang 45 (1990) nr. 1-4 pagina's 6 p. |
Jaar: |
1990 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|