|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Reactive Ar ion beam sputter deposition of TiO2 films: Influence of process parameters on film properties |
| Auteur: |
Bundesmann, C. Lautenschläger, T. Thelander, E. Spemann, D. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 395 (2017) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |