|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 178 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison between p-type dopants for shallow junction formation by diffusion from an ion implanted silicide |
| Auteur: |
Lippens, P. Maex, K. Van Den Hove, L. De Keersmaecker, R. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 39 (1989) nr. 1-4 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1989 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 178 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |