|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 39 van 55 gevonden artikelen
| Titel: |
SHI induced effects on the electrical and optical properties of HfO2 thin films deposited by RF sputtering |
| Auteur: |
Manikanthababu, N. Dhanunjaya, M. Nageswara Rao, S.V.S. Pathak, A.P. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 379 (2016) nr. C pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 39 van 55 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |