|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 52 van 77 gevonden artikelen
| Titel: |
MeV ion beam lithography of biocompatible halogenated Parylenes using aperture masks |
| Auteur: |
Whitlow, Harry J. Norarat, Rattanaporn Roccio, Marta Jeanneret, Patrick Guibert, Edouard Bergamin, Maxime Fiorucci, Gianni Homsy, Alexandra Laux, Edith Keppner, Herbert Senn, Pascal |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 354 (2015) nr. C pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 52 van 77 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |