|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomistic modeling of ion implantation technologies in silicon |
| Auteur: |
Marqués, Luis A. Santos, Iván Pelaz, Lourdes López, Pedro Aboy, María |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 352 (2015) nr. C pagina's 148-151 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |