|
Effects of C+ ion implantation on electrical properties of NiSiGe/SiGe contacts |
|
|
|
Titel: |
Effects of C+ ion implantation on electrical properties of NiSiGe/SiGe contacts |
Auteur: |
Zhang, B. Yu, W. Zhao, Q.T. Buca, D. Breuer, U. Hartmann, J.-M. Holländer, B. Mantl, S. Zhang, M. Wang, X. |
Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
Paginering: |
Jaargang 307 (2013) nr. C pagina's 4 p. |
Jaar: |
2013 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|