|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Distributions of boron and phosphorus implanted in silicon in the energy range 0.1–1.5 MeV |
| Auteur: |
Oosterhoff, S. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 30 (1988) nr. 1 pagina's 12 p. |
| Jaar: |
1988 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |