|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Range profiles of 10 to 390 keV ions (29 ≦ Z 1 ≦ 83) implanted into amorphous silicon |
| Auteur: |
Fichtner, P.F.P. Behar, M. Olivieri, C.A. Livi, R.P. De Souza, J.P. Zawislak, F.C. Biersack, J.P. Fink, D. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 28 (1987) nr. 4 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1987 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |