|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 61 van 100 gevonden artikelen
| Titel: |
Ion beam induced formation of nanocrystalline silicon in pulsed laser deposited SiOX thin films |
| Auteur: |
Saxena, Nupur Agarwal, Avinash Kanjilal, D. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 269 (2011) nr. 24 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 61 van 100 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |