|
Ge nano-layer fabricated by high-fluence low-energy ion implantation |
|
|
|
Titel: |
Ge nano-layer fabricated by high-fluence low-energy ion implantation |
Auteur: |
Lu, Tiecheng Dun, Shaobo Hu, Qiang Zhang, Songbao An, Zhu Duan, Yanmin Zhu, Sha Wei, Qiangmin Wang, Lumin |
Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
Paginering: |
Jaargang 250 (2006) nr. 1-2 pagina's 5 p. |
Jaar: |
2006 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|