|
Ion beam analysis of PECVD silicon oxide thin films |
|
|
|
Titel: |
Ion beam analysis of PECVD silicon oxide thin films |
Auteur: |
Fernandez-Lima, F. Rodriguez, J.A. Pedrero, E. Fonseca Filho, H.D. Llovera, A. Riera, M. Dominguez, C. Behar, M. Zawislak, F.C. |
Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
Paginering: |
Jaargang 243 (2006) nr. 1 pagina's 5 p. |
Jaar: |
2006 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|