|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 66 van 213 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of thermally-activated diffusion on 72keV Ni ion implantation into Cu targets at elevated temperatures |
| Auteur: |
Tsai, W.F. Liang, J.H. Kai, J.J. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 241 (2005) nr. 1-4 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 66 van 213 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |