|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 136 van 145 gevonden artikelen
| Titel: |
The use of self-implanted amorphized silicon substrates to eliminate channeling effects in low energy boron implants |
| Auteur: |
Simonton, R.B. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 21 (1987) nr. 1-4 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
1987 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 136 van 145 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |