|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 193 van 242 gevonden artikelen
| Titel: |
Properties of thick DLC films prepared by plasma-based ion implantation and deposition using combined RF and H.V. pulses |
| Auteur: |
Oka, Y. Tao, M. Nishimura, Y. Azuma, K. Fujiwara, E. Yatsuzuka, M. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 206 (2003) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 193 van 242 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |