|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 173 van 183 gevonden artikelen
| Titel: |
The point defect engineering approaches for ultra-shallow boron junction formation in silicon |
| Auteur: |
Chu, W.-K. Liu, J.R. Lu, X. Shao, L. Wang, X. Ling, P. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 190 (2002) nr. 1-4 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 173 van 183 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |