|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 30 gevonden artikelen
| Titel: |
Defect formation and annealing behavior of Si implanted by high-energy 166Er ions |
| Auteur: |
Li, Yuguo Tan, Chunyu Xue, Chengshan Zhang, Jingping Xu, Honglei Liu, Pijun Wang, Lei |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 174 (2001) nr. 1-2 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 30 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |