|
Characterization of silicon oxynitride films using ion beam analysis techniques |
|
|
|
Titel: |
Characterization of silicon oxynitride films using ion beam analysis techniques |
Auteur: |
Walker, S.R Davies, J.A Mascher, P Wallace, S.G Lennard, W.N Massoumi, G.R Elliman, R.G Ophel, T.R Timmers, H |
Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
Paginering: |
Jaargang 170 (2000) nr. 3-4 pagina's 6 p. |
Jaar: |
2000 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|