|
Compositional and morphological study of reactive ion beam deposited AlN thin films |
|
|
|
Titel: |
Compositional and morphological study of reactive ion beam deposited AlN thin films |
Auteur: |
Cheng, L.L Yu, Y.H Sundaravel, B Luo, E.Z Lin, S Lei, Y.M Ren, C.X Cheung, W.Y Wong, S.P Xu, J.B Wilson, I.H |
Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
Paginering: |
Jaargang 169 (2000) nr. 1-4 pagina's 4 p. |
Jaar: |
2000 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|