|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Interfacial reactions of Ni/Si0.76Ge0.24 and Ni/Si1− x − y Ge x C y by vacuum annealing and pulsed KrF laser annealing |
| Auteur: |
Luo, Jian-Shing Lin, Wen-Tai Chang, C.Y. Shih, P.S. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 169 (2000) nr. 1-4 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |