|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 214 gevonden artikelen
| Titel: |
Amorphization of Si(001) by ultra low energy (0.5–5 keV) ion implantation observed with high-resolution RBS |
| Auteur: |
Kimura, K Agarwal, A Toyofuku, H Nakajima, K Gossmann, H.-J |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 148 (1999) nr. 1-4 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 214 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |