Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 11 van 75 gevonden artikelen
 
 
  Comparative study of ion implantation caused damage depth profiles in polycrystalline and single crystalline silicon studied by spectroscopic ellipsometry and Rutherford backscattering spectrometry
 
 
Titel: Comparative study of ion implantation caused damage depth profiles in polycrystalline and single crystalline silicon studied by spectroscopic ellipsometry and Rutherford backscattering spectrometry
Auteur: Petrik, P.
Lohner, T.
Fried, M.
Khánh, N.Q.
Polgár, O.
Gyulai, J.
Verschenen in: Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms
Paginering: Jaargang 147 (1999) nr. 1-4 pagina's 6 p.
Jaar: 1999
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Science B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 11 van 75 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland