|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 61 van 124 gevonden artikelen
| Titel: |
Ion-beam induced sequential epitaxy of α, β and γ-FeSi2 in Si (100) at 320°C |
| Auteur: |
Maltez, R.L. Behar, M. Lin, X.W. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms |
| Paginering: | Jaargang 106 (1995) nr. 1-4 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 61 van 124 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |