|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 43 gevonden artikelen
| Titel: |
Interfacial microstructure and electrical properties of HfAlO x thin films on compressively strained Si83Ge17 grown by RF magnetron sputtering |
| Auteur: |
Qiu, X.Y. Chan, K.C. Lee, P.F. Dong, X.W. Dai, J.Y. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 86 (2009) nr. 11 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 43 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |