|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 78 van 138 gevonden artikelen
| Titel: |
Integration of Hf x Ta y N metal gate with SiO2 and HfO x N y gate dielectrics for MOS device applications |
| Auteur: |
Yang, Chang-Ta Chang-Liao, Kuei-Shu Chang, Hsin-Chun Sahu, B.S. Wang, Tzu-Chen Wang, Tien-Ko Wu, Wen-Fa |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 84 (2007) nr. 12 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 78 van 138 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |