|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 74 gevonden artikelen
| Titel: |
Electrical characteristics of Ge buried channel FinFETs with interfacial layers treated by F/N/H-based plasma |
| Auteur: |
Li, Yan-Lin Chang-Liao, Kuei-Shu Ku, Chao-Chen Ruan, Dun-Bao Huang, Chin-Hsiu Hsu, Yi-Wen Tsai, Shang-Fu Yang, Meng-Ying Wu, Wen-Fa |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 178 (2017) nr. C pagina's 5-9 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 74 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |