|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 94 van 187 gevonden artikelen
| Titel: |
Improvement of thermal stability of Ni silicide on N+–Si by direct deposition of group III element (Al, B) thin film at Ni/Si interface |
| Auteur: |
Tsutsui, Kazuo Shiozawa, Takashi Nagahiro, Koji Ohishi, Yoshihisa Kakushima, Kuniyuki Ahmet, Parhat Urushihara, Nobuyuki Suzuki, Mineharu Iwai, Hiroshi |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 85 (2008) nr. 10 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 94 van 187 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |