|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 86 van 187 gevonden artikelen
| Titel: |
Gentle FUSI NiSi metal gate process for high-k dielectric screening |
| Auteur: |
Gottlob, H.D.B. Lemme, M.C. Schmidt, M. Echtermeyer, T.J. Mollenhauer, T. Kurz, H. Cherkaoui, K. Hurley, P.K. Newcomb, S.B. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 85 (2008) nr. 10 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 86 van 187 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |