|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 90 van 135 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma-engineered Si−SiO2 interfaces: monolayer nitrogen atom incorporation by low-temperature remote plasma-assisted oxidation in N2O |
| Auteur: |
Koh, K. Niimi, H. Lucovsky, G. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 98 (1998) nr. 1-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 90 van 135 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |