|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 100 gevonden artikelen
| Titel: |
Depth profiles, projected ranges, and secondary ion mass spectrometry relative sensitivity factors for more than 50 elements from hydrogen to uranium implanted into metals |
| Auteur: |
Wilson, R.G. Stevie, F.A. Lux, G.E. Kirschbaum, C.L. Frank, S. Pallix, J. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 51 (1992) nr. 1-3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1992 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 100 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |