|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
CMAS resistance of high-entropy (Dy0.2Ho0.2Er0.2Tm0.2Lu0.2)2Hf2O7 in-serviced as top TBC of Si-HfO2/Yb2Si2O7/Yb2SiO5 EBCs system: an experimental and atomistic modeling study |
| Auteur: |
Zhao, Hui Miao, Qiang Liang, Wenping Liu, Ruixiang Zhang, Xiaofeng Shi, Junqin Ramasubramanian, Brindha Ramakrishna, Seeram |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 508 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |