|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
SiCxNy:H films produced from an r.f. discharge of the SiH4CH4NH3 system |
| Auteur: |
Zhang, W. Wang, J.-T. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 50 (1991) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1991 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |